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半导体集成电路是指在半导体基板上，利用氧 化、蚀刻、扩散等方法，将众多电子电路组成各式二极管、晶体管等电子组件作在一微小面积上，以完成某一特定逻辑功能（例如：AND、OR、NAND等）， 进而达成预先设定好的电路功能。半导体的生产工艺要求高，涵盖光刻、精密切割和研磨等各种复杂工艺，生产半导体的过程会产生大量的废水， 半导体废水污染物种类多，成分复杂，通常包括多种重金属废水，有机废水以及硅和氟废水；同时半导体PCW系统的制程冷却水须过滤处理以回用（见水处理应 用）。
清洗工艺及废水来源
工艺 | 清洁源 | 容器 | 清洁效果 |
剥离光刻胶 | 氧等离子体 | 平板反应器 | 刻蚀胶 |
去聚合物 | 硫酸:水=6:1 | 溶液槽 | 除去有机物 |
去自然氧化层 | 氟化氢:水<1:50 | 溶液槽 | 产生无氧表面 |
旋转甩干 | 氮气 | 甩干机 | 无任残留物 |
RCA1#(碱性) | 氢氧化铵:过氧化氢:水=1:1:1.5 | 溶液槽 | 除去表面颗粒 |
RCA2#(碱性) | 氯化氢:过氧化氢:水=1：1：5 | 溶液槽 | 除去重金属粒子 |
DI清洗 | 去离子水 | 溶液槽 | 除去清洗溶剂 |
问题描述
分产生废水量大
废水成复杂，含有各种过渡性质的金属如硅、锗等，同时含有较高含量的氟；
废水中含有难以处理的较高浓度的 COD；
陶瓷膜过滤系统
占地面积小，集中管理，智能控制；
产水质量高，同时去除废水中的磷酸盐和COD；
耐化学酸碱性佳，寿命长，维护简便；
简化传统工艺，无需添加药剂；
